В РФ начали разработку отечественных литографических сканеров для производства микросхем

В конце прошлого года Минпромторг выделил 5,7 млрд рублей на разработку отечественных литографических сканеров. На днях стало известно, что Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) приступил к проектным работам по этому заказу. Подробно о планах центра по проекту ресурсу zelenograd.ru генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв.

Центр заключил с Минпромторгом два контракта: один на разработку сканеров с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм (в интервью говорится о степперах, хотя это старое название сканеров, когда фотомаски механически сдвигались для проекции на новый участок кремниевой подложки). В итоге, как планируется, полностью отечественные фотолитографы придут на замену импортным, в частности, используемым сейчас на зеленоградских фабриках.

Освоение серийного производства фотолитографов на 350 нм ожидается в 2025 году. Для установки будет взят готовый полупроводниковый лазер отечественного производства. Не исключено, что в будущем для этого могут быть также использованы лазеры зеленоградских компаний. Согласно контракту, проект сканера и его опытный образец должны быть готовы к концу 2024 года, включая всю документацию для запуска серийного производства установки.

Из конкурсной документации следует, что 350-нм сканер будет представлять собой 3,5-тонную установку размерами 2 × 2,6 × 2,5 м с управляющим комплексом габаритами 2 × 0,8 × 1,6 м. Установка ориентирована на обработку 150- и 200-мм кремниевых подложек.

Разработка 130-нм сканера завершится примерно на год позже. Для этого сканера будет с нуля создаваться отечественный 193-нм лазер, чтобы уйти от импортных комплектующих, в частности, от лазеров американской компании Cyber, которые сегодня широко используются на российских полупроводниковых