Китай готовит сканер для создания чипов без использования технологий США
Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) намерена выпустить сканер для чипов, которые станут лидерами по производительности, без использования технологий США.
Сейчас китайская компания разрабатывает сканер для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Оборудование, по словам производителя, поступит на рынок к концу 2021 года. Для его создания используются материалы и технологии только из Японии и КНР. Для электронной отрасли Поднебесной появление такого устройства — большой прорыв.
Сканер разрабатывается специально для возможности независимого от санкций США производства по техпроцессу до 28 нм. Сейчас самое современное оборудование позволяет создавать микросхемы с техпроцессом не менее 90 нанометров. В
Читать на nation-news.ru

