Правительство утвердило двухуровневую систему локализации интегральных схем с переходным периодом до 2038 года

Правительство РФ утвердило 16 апреля 2026 года новые параметры локализации для интегральных схем. Изменения вносятся в постановление №719. Документ предусматривает двухуровневую балльную систему оценки производства микросхем. Он опубликован на портале официального опубликования правовых актов.

Производители будут получать баллы за каждый отдельный процесс производства. Итоговый балл складывается из трёх составляющих. Первая — доля технологических операций, выполненных в России. Вторая — доля использованных отечественных комплектующих. Третья — доля российского программного обеспечения и сложнофункциональных блоков. Изменения вступают в силу с 1 января 2027 года.

В начале июля 2025 года в Минпромторге обсуждался проект изменений в постановление правительства №719. Министерство планировало кардинально пересмотреть систему оценки локализации микросхем. Фокус должен был сместиться с разработки чипов в России на реальное производство. Также учитывались бы корпусирование и модернизация на территории страны. Тогда предлагалась трёхуровневая система. Для признания продукции первого уровня требовалось набрать 100 баллов до 2035 года. Это означало выполнить все условия. Для второго уровня требовалось 55 баллов. Для третьего — 36 баллов. Документ также содержал поэтапный график обязательного использования отечественных компонентов. Фоторезисторы должны были использоваться с 2030 года. Корпуса и подложки — с 2031 года. Фотошаблоны — с 2035 года. График касался и российского программного обеспечения для проектирования.

В утверждённом постановлении осталось только два уровня локализации. Первый уровень предполагает полный цикл производства пластин. Он требует использования фотошаблонов и монокристаллов. Второй уровень не требует