Canon выйдет на рынок оборудования для производства передовых чипов

Известная своими камерами и принтерами японская компания Canon представила решение, которое поможет в производстве самых современных полупроводниковых компонентов. Об этом сообщает CNBC. Система наноимпринтной литографии (NIL) от фирмы призвана бросить вызов оборудованию нидерландской компании ASML, которая доминирует в секторе EUV-технологии.

Установки от ASML используются в производстве самых передовых чипов вроде 3-нм процессоров A17 Pro для iPhone 15 Pro и Pro Max от Apple, способных обрабатывать запросы искусственного интеллекта. Производящая этот CPU тайваньская компания TSMC, как и южнокорейский концерн Samsung, анонсировали серийный запуск 2-нм чипов в 2025 году. В процессе литографии машины ASML используют жесткое ультрафиолетовое излучение.

В Canon отметили, что их установка не требует света с определенной длиной волны, что снижает энергопотребление. Японская фирма разрабатывает свою NIL-технологию с 2004 года. По словам эксперта из индийского Институт Такшашила, этот подход за время своего существования не получил распространения в производстве сложных чипов.

Частично это связано с успехами в сегменте EUV-машин вроде ASML. В Canon утверждают, что их установка FPA-1200NZ2C способна производить полупроводники по техпроцессу 5 нм и может масштабироваться до 2 нм. Оборудование для производства современных чипов втянуто в технологическую битву между США и Китаем из-за критического характера полупроводниковых компонентов для таких областей, как ИИ или военные приложения.