В России создают первую 8-модульную кластерную установку для магнетронного нанесения слоёв алюминиевой металлизации

Научно‑исследовательские институты НИИТМ и НИИМЭ начали разработку первой в России кластерной установки из восьми модулей для нанесения слоёв алюминиевой металлизации методом вакуумного напыления. Оба института входят в Группу компаний (ГК) «Элемент». Оборудование позволит выпускать интегральные микросхемы с размером элементов от 180 до 90 нанометров на пластинах диаметром 200 миллиметров.

Как отмечают в ГК «Элемент», главное преимущество установки представляет собой конфигурация транспортной системы. Два распределительных модуля разделены буферной камерой. Такая схема обеспечивает высокий уровень вакуума. Это улучшает чистоту и качество плёнок. Решение позволяет разместить до восьми технологических модулей и два шлюза для загрузки и выгрузки пластин.

В комплекс войдут два робота-манипулятора. Они обеспечат высокую скорость работы. Оборудование построено по модульному принципу: его можно менять или улучшать для новых задач. Часть модулей дублируется, поэтому установка будет работать даже во время обслуживания. Это повышает надёжность и эффективность.

Специалисты НИИТМ разработают конструкторскую документацию и создадут макеты ключевых узлов. Далее будет изготовлен опытный образец и проведены предварительные испытания. Учёные и инженеры из НИИМЭ сформулируют технические требования к оборудованию. Эти специалисты подготовят программы испытаний и выполнят полный цикл технологических тестов кластера.

Генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков отметил, что создание отечественной кластерной установки станет важной частью развития микроэлектроники в России. По словам Бирюкова, разработка оборудования с восемью технологическими модулями требует решения комплексных научно‑технических задач. Генеральный директор НИИТМ добавил,