Подвинься, ASML: у Canon появилось литографическое оборудование для выпуска чипов 5 нм уже сейчас, а далее — 2 нм. Получит ли его Китай?

Японская Canon бросает вызов лидеру и нидерландскому производителю литографического оборудования ASML (фактический монополист) – она начала продавать новейшие системы наноструктурной литографии для производства самых современных полупроводников, сообщают CNBC и Bloomberg .

Помогаем

Обновлено: Детям из Мариуполя нужно 120 ноутбуков для обучения - подари старое "железо", пусть оно работает на будущее Украины

Дефицит микросхем, казавшийся наибольшей проблемой пандемического 2020-го, сейчас уже никто не упоминает, но он запустил тектонические сдвиги в полупроводниковой индустрии, только усилившиеся с вторжением в РФ. Сегодня японский технологический гигант Canon, известный в первую очередь камерами и принтерами, выпустил на рынок новую литографическую установку под названием FPA-1200NZ2C. Она позиционируется как более простая и доступная альтернатива наиболее технически прогрессивному оборудованию ASML, на котором производятся самые совершенные на сегодняшний день чипы, например SoC Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro и iPhone 15 Pro Max). Напомним, процессоры выпускает TSMC на техпроцессе 3-нм (N3E).

Новая система Canon использует технологию Nanoimprint lithography (наноструктурной литографии) и способна производить микросхемы, тождественные 5-нм чипам, изготовленным с использованием более прогрессивной технологии литографии в глубоком ультрафиолете (EUV), где как раз доминирует лидер отрасли — уже упомянутая ASML Holding. И Canon рассчитывает в следующем поколении перепрыгнуть до 2 нм. Да, сейчас Canon, как и ее местный соперник Nikon, отстает от ASML в EUV-бегах, но новый подход к наноструктурной литографии — хороший шанс сократить отставание. Кстати, и TSMC, и южнокорейская Samsung – два крупнейших производителя