
К 2023 году у Китая будут собственные литографические сканеры для 20-нм технологии
Американские санкции, направленные против Huawei и SMIC, своей целью имеют прекращение доступа китайских компаний к новейшим литографическим технологиям. Попытки китайских производителей перейти на импортозамещение увенчаются успехом к концу следующего года, но ограничатся лишь оборудованием, пригодным для 28-нм технологии.
В Китае с 2002 года работает компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE), недавно стало известно, что она представит свой литографический сканер второго поколения к четвёртому кварталу 2021 года. Это оборудование будет использовать погружную литографию с глубоким ультрафиолетовым излучением с длиной волны 193 нм и лазером на основе фторида аргона. Западные компании типа TSMC и Intel такое оборудование начали
Читать на bin.ua


