У компании Samsung готова 7-нанометровая технология EUV

Компания Samsung разработала 7-нанометровую технологию EUV, она уже готова к серийному выпуску. По энергетической эффективности продукции новшество превосходит предыдущие аналоги.

Производитель TSMC первый среди компаний по выпуску полупроводников освоил продукцию по нормам 7 нм. Формально она по своим характеристикам относится к тем уровням, которые ожидают от 10-нанометровой технологии корпорации Intel. Наряду с этим компания Samsung пошла на осознанное замедление работы над техпроцессом, приравнивающимся к нанометровой технологии TSMC первой генерации. Это позволило акцентировать внимание на освоении экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Согласно имеющейся информации, развитие темы происходит по плану. В ходе симпозиума по VLSI опубликован отчёт группы специалистов. представители южнокорейской компании заявили, что их технология EUV практически готова к применению. В документации имеется график, позволяющий провести сравнение напряжение пробоя для трёх техпроцессов. Чем больше угол наклона прямой, тем выше определяемая энергетическая эффективность исследуемого параметра. Эксперты отмечают, что новая 7-нанометровая технология, разработанная и предложенная Samsung, превосходит предшественниц по ряду показателей.