Китай обрадовался, а в ASML напряглись: Canon выпустила особую систему литографии для чипов

Уже в ближайшем будущем японская корпорация собирается улучшить техпроцесс до 2-нм, к тому же ее установка гораздо проще, чем громоздкие системы от ASML. Компания Canon на своем официальном сайте сегодня объявила о создании новейшей системы "наноимпринтной литографии" FPA-1200NZ2C. Эта система позволит компании производить чипы по 5-нм техническому процессу, а в ближайшем будущем уменьшить их значение до 2-нм.

Компания утверждает, что такой техпроцесс еще больше увеличит производительность и функциональность новых процессоров. Для примера: самый современный чип A17 Pro внутри iPhone 15 Pro и Pro Max от Apple представляет собой 3-нм полупроводник. Как отмечают эксперты CNBC, главный конкурент и фактически монополист на рынке литографического оборудования, без которого немыслима разработка новых процессоров, нидерландская компания ASML, использует в своих установках ультрафиолетовый свет.

В Canon заявили, что ее машине не требуется источник света со специальной длиной волны, что снижает энергопотребление и значительно упрощает весь процесс. Canon разрабатывает свою технологию наноимпринтной литографии (NIL) еще с 2004 года, но только сейчас в компании смогли добиться значительно результата. Технология японской фирмы полностью исключает фотолитографию и вместо этого наносит желаемый рисунок схемы на кремниевую пластину.

Наноимпринтная литография (НИЛ) — это метод формирования наноструктур на поверхности с использованием механического воздействия. В отличие от традиционных методов литографии, таких как фотолитография или электронно-лучевая литография, НИЛ не требует использования фоторезиста или других химических веществ. При НИЛ используется штамп, который имеет рельефную структуру, соответствующую желаемой наноструктуре.